光刻膠膜的接觸角測量結果受多種因素影響，理解這些因素對工藝優化至關重要。光刻膠本身的化學組成是決定其潤濕性的基礎因素。不同樹脂類型（如酚醛樹脂、丙烯酸酯）的極性差異會導致接觸角顯著變化。一般而言，含極性基團多的光刻膠表現出更小的水接觸角，即更強的親水性。

1、表面處理工藝對光刻膠膜潤濕性有顯著影響。

 UV曝光或等離子體處理可以改變表面化學鍵，降低接觸角，增強潤濕性。在半導體制造中，HMDS（六甲基二硅氮烷）處理是常用的增粘工藝，它能在光刻膠表面形成疏水層，使水接觸角增大至約80°，從而改善光刻膠與基板的粘附性。接觸角測量為這些表面處理工藝的效果評估提供了量化手段。

2、膜厚均勻性是大面積玻璃基板測量的另一關鍵考量。

 光刻膠旋涂過程中產生的厚度差異會導致表面能分布不均，進而引起接觸角變化。

3、環境因素也不容忽視。

 溫度升高通常會降低液體的表面張力，導致接觸角減小；而濕度變化則會影響液滴蒸發速率，在長時間測量中引入誤差。研究表明，相對濕度每增加10%，水接觸角的測量重復性可能降低15%8。因此，ASTM D5946-2004等標準明確規定了塑料薄膜與水接觸角度測量的環境條件要求，這些規范同樣適用于光刻膠膜測量。

4、測量方法選擇同樣影響結果準確性。

 對于超親水表面（接觸角<10°），傳統量角法誤差較大，此時可采用zhuan利中提到的直徑測量法，通過測定一定體積液體在基板上形成的直徑來計算接觸角，這種方法避免了測量微小液滴高度的困難。而對于疏水性較強的光刻膠（接觸角>120°），則需要采用Young-Laplace擬合法以獲得準確結果。